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金相磨抛机—MP-2C型

金相磨抛机—MP-2C型

MP-2C双盘台式金相磨抛机(以下简称磨抛机)是一种集预磨抛光一体的设备,它利用各种不同粒度的耐水研磨金相砂纸,对各种金属及合金式样以及岩相试样进行粗磨、精磨、干磨、湿磨等各道研磨工序,做抛光前的粗加工工序。也利用抛光布及抛光剂来粗抛精抛试样,使试样光洁如镜。采用本磨抛机,除以机械磨光代替手工操作提高制备试样的效率以外,还能完全除去试样切割过程中产生的塑性变形和表面加热痕迹,供进一步抛光后进行组织的显微测定。

本机共有四种速度可选择,一磨盘为520和700r/min,另一磨盘为800和1200r/min。针对不同材质可采用不同转速来预磨抛光,以达到好效果。

技术参数



1,砂纸直径

Φ230mm

2,抛光布直径

Φ220mm

3,转速

磨盘转速:520/700r/min,

抛盘转速:800/1200r/min

4,电动机

YSD80-4/6 0.25/0.37kw

5,电源电压

380V, 50hz

6,外形尺寸

730x650x300mm

7,重量

55k




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